Obducat

  • ?language_menu-print
  • Svenska
  • English
omobducat.png

Om Obducat

NIL - EN FLEXIBEL, EXAKT OCH KOSTNADSEFFEKTIV TEKNIK


Nanoteknik är ett samlingsnamn för teknik med en storleksnivå som bäst beskrivs i nanometer – miljarddels meter. Det kan jämföras med ett hårstrå, som är ca 70 000 nm i diameter. Det rör sig oftast om mycket avancerad teknik, och tillämpningsmöjligheterna är enorma. Med Obducats nanoimprintlitografi (NIL) har storskalig produktion av nanometerstora strukturer nått en helt ny nivå av flexibilitet och kostnadseffektivitet. Närmast ofattbart små strukturer och konstruktioner kan tillverkas och replikeras med nanometerprecision. Det innebär dels att utvecklingen närmar sig gränsen för det fysiskt möjliga (en enkel atom är cirka 0,2 nanometer i diameter), dels en aldrig förr skådad effektivitet per ytenhet. Denna yteffektivitet, i kombination med de skräddarsydda egenskaper själva utformningen av materialet skapar, är mycket eftertraktad inom en mängd applikationsområden.

Nanometerprecis skulptering

Inom högteknologisk produktion ställs extrema krav på tillverkningens exakthet – ett måste för att uppnå önskad funktionalitet. Lika viktigt för att vara ett attraktivt kommersiellt alternativ är förmågan att snabbt, korrekt och kostnadseffektivt upprepa proceduren, exempelvis att kopiera ett mönster. Genom Obducats sinnrika teknik överförs mycket komplicerade, tredimensionella mönsterstrukturer från ett originalmönster, en stamper, till en bestämd yta (substrat), snabbt och exakt varje gång. Det finns flera metoder att kopiera nanostrukturer, men NIL-tekniken är ledande ifråga om såväl kostnad som upplösning. I förlängningen möjliggör NIL mindre, bättre och billigare produkter inom såväl optik och elektronik som energi- och minneslagring. Helt enligt Obducats devis, Creating Greater Capacity on Smaller Spaces.

Original och kopior från samma leverantör – Obducat

Obducat levererar litografisystem för tillverkning och replikering av mikro- och nanostrukturer. Dessa produktionslösningar är baserade på ett flertal patenterade tekniker. Bolagets bedömning är att NIL och EB (elektronstråleteknik; område som omfattar både svepelektronmikroskopi, SEM, och elektronstrålekolumner, EBR) är tekniker med stor teknisk höjd och bäst möjlighet till en framgångsrik fullskalig kommersialisering. Just kombinationen av dessa två tekniker gör Obducat världsunikt. Ingen konkurrent förfogar över båda teknikerna, vilka bägge behövs för såväl produktion av stampers som själva reproduktionstekniken, i detta fall NIL. Därtill är EBR-teknikens kostnadseffektivitet jämfört med konventionell EBL-teknik (elektronstrålelitografi) överlägsen, men också dess noggrannhet vid exponering över stora ytor. Att kunna leverera en komplett litografilösning till kunden är mycket viktigt och ur detta perspektiv bedömer Obducat att bolaget har en särskilt stark position.

Färre delmoment sänker kostnaden

Vad avser NIL-tekniken så finns det i huvudsak två typer av NIL. En är baserad på så kallad step and repeat, vilket innebär att en liten yta präglas åt gången. Den andra är full area, vilket innebär att en större stamper används och skapar hela mönstret på en gång. Svårigheten med full area är att erhålla ett jämnt tryckdjup över hela ytan. Just detta problem löser Obducat med den patenterade Soft Press®-tekniken, som har en rad fördelar framför konkurrerande tekniker. Produktionshastigheten blir högre och kostnaden lägre vid full area-imprint. Obducats patenterade ytbehandlingsprocesser av stampers bidrar också till hög produktionshastighet och låg kassationsnivå.


© Obducat 2009